半导体制造依赖高纯度真空环境，干式旋片真空泵在刻蚀、镀膜环节提供无油超高真空（10⁻³Pa）​，避免微粒污染晶圆。​低振动设计保障精密设备稳定性，配合He泄漏检测确保腔体密封性。2025年半导体领域占干式泵市场44%份额，国产化替代加速驱动定制化需求。